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第二十一章 真空镀膜下（第3页）

一小时后。

真空计示数达到5.2E-5帕，升温程序也进入第二阶段，一切正常。

十二分钟后。

温度示数达到400摄氏度，膜厚仪显示的实时蒸镀速率，在-0.01至0.01埃每秒之间波动，膜厚显示仍为0.00埃。

三分钟后。

温度示数继续增加，直至480摄氏度左右，蒸镀速率开始在0.00至0.03埃每秒之间波动。

当温度达到520摄氏度后，蒸镀速率维持在0.20至0.30埃每秒。

许秋先开启样品台旋转，在等待了约十秒钟后，同时打开样品挡板并将膜厚仪的膜厚计数器归零。

钙要蒸镀10纳米的厚度，也就是100埃。

……

待膜厚仪示数达到100埃时，许秋迅速关闭样品挡板。

随后，他将束源炉升温数控装置关闭，让束源炉自然降温。

最后，将膜厚仪的参数改为铝的参数。

……

半小时后。

束源炉的温度降低至77摄氏度。

许秋关闭钙的束源炉挡板，打开电流加热装置。

这个加热装置很简单，就是把电源、钨篓、电位器（类似于滑动变阻器）、保险丝、电流计连在一起，通过调节电位器，便可以改变电路中的电流大小。

许秋缓慢扭动电位器的旋钮，使电流计示数从0逐渐增加至18安培。

当电流达到16安培时，膜厚仪上蒸镀速率开始有了示数。

电流达到18安培后，许秋等待了几秒，然后同时打开样品挡板并清零膜厚仪的膜厚计数器。

蒸镀速率则先是从0.2、0.3迅速提升至3.0，随后迅速回落至1.8，之后缓缓下降至1.7，1.6埃每秒……

电流计的示数也会随着时间变化，忽上忽下。

每当其相较于18的偏离值超过1时，许秋就将其调至18。

铝的厚度要求是100纳米，也就是1000埃。

……

待膜厚仪示数达到1000埃时，许秋迅速按下样品挡板。

然后缓缓扭动电位器，将电流归零。

接着关闭超真空挡板阀，停止分子泵。

等待十分钟后，分子泵转速从27000r.p.m.降至0，关闭其开关。

最后，关闭机械泵，关闭总控台。

…………

“终于结束啦！”

许秋长吁了一口气，感慨道。